Tape-out based on SMIC’s N+1 technology succeeds despite sanctions
N+1, SMIC’s next-generation foundry node, offers a conspicuous improvement in performance and logic density. Compared with its existing 14-nanometer (nm) process, N+1 manufacturing technology can increase a chip’s performance by 20 percent and cut its power consumption by 57 percent, said Liang Mengsong, co-CEO of SMIC.
Xiang Ligang, director-general of telecom industry association Information Consumption Alliance, told the Global Times that the successful tape-out indicates the reliability of the advanced technology. The N+1 process can basically be realized at the 8-nm level, while N+2 equals the 7-nm level.
“Issues around technology can be solved step by step, and our current technology can basically meet our demand,” Xiang said.
By Zhang Hongpei Source: Global Times Published: 2020/10/12 19:43:40
![[Chips] Knowledge](https://www.zgzl2050.com/wp-content/uploads/2020/12/image-19-200x120.png "[Chips] Knowledge")
![[Auto] [Car] JAC 中企进军 拉美 & 欧美汽车市场](https://www.zgzl2050.com/wp-content/uploads/2020/10/jac-200x120.jpg "[Auto] [Car] JAC 中企进军 拉美 & 欧美汽车市场")
![[孟晚舟] 2018 华为首席财务官孟晚舟被捕 (加拿大-美国) [On-Going]](https://www.zgzl2050.com/wp-content/uploads/2020/04/image-111-200x120.png "[孟晚舟] 2018 华为首席财务官孟晚舟被捕 (加拿大-美国) [On-Going]")
2021
半导体大国地基是空的？科技战露馅
林修民说：“他之前用给钱，看起来给钱也解决不了问题。他给了一堆钱只是多了一堆骗子出来要跟你骗钱而已，之前武汉弘芯就是最典型的例子，看到国家说要要给钱，就一堆人去争取，找了蒋爸、蒋尚义去那边。现在中国官方遇到问题是就算要给钱，也不知道要给谁，干脆就用免税。但是这个效益不会很大，尤其是他现在所遇到的问题，包括华为、中芯、紫光，都不是减税可以解决的。”
林修民认为，回过头来，半导体最重要是基础研究要扎实，包括化工、物理、电机、电路等设计、演算，要花很多人力时间投入关键技术的研发，一旦科技战开打，比的是真枪实弹，中国大陆看起来像是大楼盖很高很漂亮的资讯王国、半导体大国，其实底下地基是空的。
林修民说：“中国人的特性可能就是比较喜欢那种速成，或者是做一些表面，赚钱的方法会比较快。中国现在主要的问题是他底下地基是空的，就是他那些基础研究，没有办法支撑他上层这些半导体的应用。欧美就不要比，比亚洲就好，你看日本有多少物理奖、化学，那些才是真正蹲马步的工夫，但是中国有多少物理奖、化学奖得主？”
https://news.creaders.net/china/2020/12/18/2300922.html
芯片制造离不开光刻机，日媒曝出中国联合日本科技巨头共同研发光刻机的消息，引发外界高度关注。分析指，这将为遭美国断供的华为带来转机。
据《日本经济新闻》网站当地时间10月15日报道，业内人士透露，为了推进极紫外线以外的EUA光刻设备的研发进程，中国企业已经打算提供资金，联合尼康（Nikon）、佳能（Canon）这两家日本巨头共同研发光刻机。
https://twitter.com/TibetWest/status/1317151924794331136
另据光刻机龙头企业阿斯麦（ASML）总裁兼首席执行官（CEO）Peter Wennink称，“根据当前法规，ASML无需获得美国出口许可证便可以继续从荷兰向中国客户出货DUV光刻系统；对于直接从美国发货系统或零件到受法规影响的客户，ASML需获得许可证。”
外界分析亦认为，随着时间的推移，华为还在迎来转机。
中芯国际，官宣完成了FinFET N+1先进工艺的芯片流片和测试，所有IP全部是自主国产，而且功能一次测试通过！该代工工艺非常接近7nm制程，并且最重要的是，实现该工艺不需要用到，ASML公司生产的极紫外光刻机
这意味着，美国卡着ASML公司，不卖给中芯国际7nm极紫外光刻机的问题，被突破了，即便没有了这台光刻机，中芯国际，也能够实现7nm芯片的生产。中芯的工艺技术获得突破，不仅能够给麒麟芯片带来机会，也是国产半导体的转机
Tape-out based on SMIC’s N+1 technology succeeds despite sanctions
N+1, SMIC’s next-generation foundry node, offers a conspicuous improvement in performance and logic density. Compared with its existing 14-nanometer (nm) process, N+1 manufacturing technology can increase a chip’s performance by 20 percent and cut its power consumption by 57 percent, said Liang Mengsong, co-CEO of SMIC.
Xiang Ligang, director-general of telecom industry association Information Consumption Alliance, told the Global Times that the successful tape-out indicates the reliability of the advanced technology. The N+1 process can basically be realized at the 8-nm level, while N+2 equals the 7-nm level.
“Issues around technology can be solved step by step, and our current technology can basically meet our demand,” Xiang said.
By Zhang Hongpei Source: Global Times Published: 2020/10/12 19:43:40
https://www.globaltimes.cn/content/1203235.shtml
刘鹤敦促国企3年改革攻坚核心技术
2030